Pfeiffer Vacuum zeigt innovative Vakuumlösungen in Asien: Anbieter von Vakuumtechnologie nimmt an den Messen Semicon Korea und Semicon China teil

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19. Januar 2016

Pfeiffer Vacuum zeigt innovative Vakuumlösungen in Asien

Anbieter von Vakuumtechnologie nimmt an den Messen Semicon Korea und Semicon China teil

Ölfreie Prozesspumpen A4-Serie von Pfeiffer Vacuum

Ölfreie Prozesspumpen A4-Serie von Pfeiffer Vacuum

Pfeiffer Vacuum, ein weltweit führender Anbieter von Vakuumtechnologie, nimmt an den Messen Semicon Korea vom 27. bis 29. Januar in Seoul sowie Semicon China vom 15. bis 17. März in Shanghai teil. Standbesucher können sich mit Experten von Pfeiffer Vacuum über innovative Vakuumlösungen austauschen. „Wir freuen uns, auf den Messen Semicon Korea und Semicon China wichtige neue Vakuumlösungen vorzustellen. In einem sich zunehmend verändernden Wettbewerbsumfeld steht Pfeiffer Vacuum als grundsolides Unternehmen optimal da, um als langfristiger und zuverlässiger Komplettanbieter von Vakuumtechnologie für alle Kunden weltweit in Aktion zu treten“, so Eric Taberlet, Unit Semiconductor & Coating.

Ölfreie Prozesspumpen A4-Serie

Die ölfreien, mehrstufigen Wälzkolbenpumpen der A4-Serie bieten ein Saugvermögen von 100 bis 2.300 m3/h. Diese energieeffizienten und zuverlässigen Pumpen sind ideal für den Geschäftsführer der Business Einsatz in anspruchsvollen Prozessen der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie. Dank korrosionsresistenter Materialien und eines hohen Gasdurchsatzes ist die Pumpenserie beispielsweise optimal für die Anwendung in CVD-Prozessen geeignet.

Turbopumpe HiPace 2800 IT

Mit der HiPace 2800 IT präsentiert Pfeiffer Vacuum eine speziell für Anwendungen zur Ionenimplantation geeignete Turbopumpe. Das ausgereifte Rotordesign der Turbopumpe gewährleistet ein optimales Saugvermögen für leichte Gase. Dadurch ist eine ausgezeichnete Anpassung bei Ionenimplantationsprozessen sichergestellt, bei denen hauptsächlich Wasserstoff anfällt. Mit einem Saugvermögen für Wasserstoff von 2.750 l/s ist die neue HiPace 2800 IT die führende Turbopumpe in ihrer Klasse.

Das intelligente Temperaturmanagement verhindert Kondensation und Ablagerung im Pumpensystem und gestattet eine individuelle Temperatureinstellung zur optimalen Prozessunterstützung. Die spezielle Hochleistungsbeschichtung des Rotors bietet Stabilität gegenüber allen Stoffen, die in Ionenimplantationsprozessen auftreten. Dank der sogenannten Hybridlagerung, einer Kombination aus Keramik-Kugellagern auf der Vorvakuumseite mit permanentmagnetischen Radiallagern auf der Hochvakuumseite, verfügen die HiPace Turbopumpen über einen äußerst robusten Lageraufbau. Dieser bildet zusammen mit der effizienten Beschichtung die Grundlage, für die lange Lebensdauer der Pumpen und eine maximale Verfügbarkeit.

Magnetgelagerte Turbopumpen ATH 2804 M und ATH 3204 M

Die ATH-M Turbopumpen erreichen einen Gasdurchsatz von über 5.000 sccm für Stickstoff bei unbeheizten Anwendungen. Darüber hinaus bieten sie mit 1.500 sccm einen sehr hohen Durchsatz für Argon sowie eine Pumpenbetriebstemperatur von 65 °C bei korrosiven Anwendungen. Die Pumpen können mit hohen Temperaturen von bis zu 85 °C für höchst aggressive Anwendungen und sensible Prozesse eingesetzt werden, bei denen Nebenproduktablagerungen kritisch sind. Sie sind mit integrierten Antriebselektroniken ausgestattet und verfügen dadurch über eine kleine Aufstellfläche und eine einfache Plug-and-Play-Installation. Die Gesamthöhe des Modells mit DN 320 Flansch beträgt weniger als 400 mm. Dank der neuen Elektronik können die Pumpen innerhalb von 8 Minuten gestartet und gestoppt werden. Die aktiven Magnetlager sorgen für einen verschleißfreien und durch eine automatische Unwuchtkompensation für einen vibrationsarmen Lauf der Pumpen. Sie sind wartungsfrei und kommen ohne Schmiermittel aus. Dadurch sind eine kontinuierliche Stabilität des Rotors und ein zuverlässiger Betrieb gewährleistet. Für die neuen ATH-M Pumpen sind daneben ein niedriger Energieverbrauch bei Nenndrehzahl und der sehr geringe Kühlwasserverbrauch (1 l/min) kennzeichnend.

Adresse der Messe Semicon Korea:

Convention & Exhibition Center (COEX)
Seoul, Korea
Stand 5130, Halle D

Adresse der Messe Semicon China:

New International Expo Center
Shanghai, China
Stand 5555, Halle N5

Pressekontakt:

Pfeiffer Vacuum GmbH
Public Relations
Sabine Neubrand
T +49 6441 802 1223
F +49 6441 802 1500
Sabine.Neubrand@pfeiffer-vacuum.de
www.pfeiffer-vacuum.com

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