SENTECH präsentiert den neuen ALD Real Time Monitor
Reges Interesse beim asiatischen und europäischen Fachpublikum
SENTECH auf der SEMICON Europa in Grenoble. Bild: SENTECH
Der neue SENTECH ALD Real Time Monitor. Bild: SENTECH
SENTECH Instruments gehört zu den führenden Anbietern von Plasma-Prozesstechnologie-Anlagen zum Beschichten mittels ALD und PECVD, sowie zum Ätzen und offeriert Ellipsometer zur Dünnschichtmesstechnik.
Der neue ALD Real Time Monitor ergänzt SENTECHs ALD-Systeme mit Insitu-Messtechnik. Mit dem Real Time Monitor können Adsorption und Desorption während des ALD-Prozesses aufgelöst werden. Dies dient besonders der Optimierung von ALD-Prozessparametern. Der Vorteil gegenüber herkömmlichen Methoden ist, dass das optische Verfahren auf der tatsächlichen Probenoberfläche misst. Der ALD Real Time Monitor ermöglicht weiterhin eine schnelle und effiziente Optimierung der ALD-Prozessparameter, denn er misst die Schichtdicke optisch, sub-Angström-genau und mit 40ms Zeitauflösung.
„Mit dem Real Time Monitor kann der ALD Prozess kostengünstiger und zeitsparender gestaltet werden, als je zuvor“, unterstreicht Dr. Gargouri, ALD-Spezialist bei SENTECH. „Mit diesem innovativen Produkt zeigt SENTECH erneut, dass unser Know-How in Sachen Messtechnik unter den vielen Anbietern hervorsticht.“
Im Oktober konnte SENTECH den ALD Real Time Monitor sowohl auf der SEMICON Europa 2014 in Grenoble/Frankreich als auch bei der dritten China ALD-Konferenz in Shanghai dem Fachpublikum vorstellen.
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