Umfassender Datensatz zu optischen Konstanten im EUV-Spektralbereich veröffentlicht
Ergebnis einer internationalen Kooperation unter der Leitung der PTB mit acht Partnereinrichtungen
Optische Konstanten als elementare Materialparameter bilden eine wichtige Grundlage für die Entwicklung und Optimierung optischer Komponenten, unter anderem für Anwendungen in der Halbleiterlithografie, an Synchrotron- und Freie-Elektronen-Laser-Anlagen sowie in bildgebenden Verfahren und zukünftigen EUV-Technologien. In der Fachzeitschrift Optics Express (Optica) wurde jetzt eine umfassende Studie veröffentlicht, in der hochpräzise optische Konstanten für 16 Übergangsmetalle – Sc, V, Cr, Co, Ni, Nb, Mo, Rh, Pd, Hf, W, Re, Os, Ir, Pt und Au – sowie für ZrO₂ im extrem ultravioletten (EUV-) Spektralbereich bestimmt wurden.
Die Studie kombiniert Messungen an speziell hergestellten Dünnschichtproben mit Bayes'schen Auswertungsverfahren zur Bestimmung der optischen Konstanten technologisch relevanter Beschichtungsmaterialien. Für mehrere der untersuchten Materialien konnten bislang nicht aufgelöste Feinstrukturen sowie deutliche Abweichungen von etablierten Referenzdatenbanken nachgewiesen werden. Die Ergebnisse stellen damit eine verbesserte Datengrundlage für die Modellierung und Auslegung von EUV-Optiken bereit.
Die Arbeit entstand im Rahmen einer internationalen Kooperation unter der Leitung der PTB mit acht Partnereinrichtungen: dem Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie (HZB), dem Helmholtz-Zentrum Hereon, der Universität Twente (MESA+ Institute for Nanotechnology), dem Lawrence Berkeley National Laboratory (Center for X-Ray Optics), ASML Research, imec, dem Laboratoire Charles Fabry (CNRS, Institut d'Optique Graduate School, Université Paris-Saclay) sowie der optiX fab GmbH.
Publikation:
Optical constants of Sc, V, Cr, Co, Ni, Nb, Mo, Rh, Pd, Hf, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, and ZrO2 in the extreme ultraviolet range
Qais Saadeh, Andrey Sokolov, Michael Störmer, Gnanavel Vaidhyanathan Krishnamurthy, Robbert Van De Kruijs, Eric Gullikson, Richard Quintanilha, Vicky Philipsen, Evgueni Meltchakov, Franck Delmotte, Oliver Kieler, Mark Bieler, Frank Siewert, Ivo Rudolph, Karl Opsomer, Meiyi Wu, Zanyar Salami, Christian Laubis, Ayhan Babalik, Danilo Ocaña García, Philipp Naujok, Christian Buchholz, Victor Soltwisch, and Frank Scholze
Opt. Express 34, 28239-28292 (2026). https://doi.org/10.1364/OE.595748
Kontakt:
Qais Saadeh
Physikalisch-Technische Bundesanstalt
Arbeitsgruppe 7.14: EUV-Nanometrologie
Qais.Saadeh(at)ptb.de
PTB-Pressemitteilung vom 13.08.2026